一抗海、涂層工藝
    刀具涂層技術(shù)通车せ铮可分為化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）兩大類。
    1．CVD技術(shù)被廣泛應用于硬質(zhì)合金可轉(zhuǎn)位刀具的表面處理葫羡。CVD可實現(xiàn)單成份單層及多成份多層復合涂層的沉積恼五，涂層與基體結(jié)合強度較高，薄膜厚度較厚哭懈，可達7～9μm灾馒，具有很好的耐磨性。但CVD工藝溫度高遣总，易造成刀具材料抗彎強度下降睬罗；涂層內(nèi)部呈拉應力狀態(tài)，易導致刀具使用時產(chǎn)生微裂紋彤避；同時，CVD工藝排放的廢氣、廢液會造成較大環(huán)境污染琉预。為解決CVD工藝溫度高的問題董饰，低溫化學氣相沉積（PCVD），中溫化學氣相沉積（MT-CVD）技術(shù)相繼開發(fā)并投入實用圆米。目前卒暂，CVD（包括MT-CVD）技術(shù)主要用于硬質(zhì)合金可轉(zhuǎn)位刀片的表面涂層，涂層刀具適用于中型娄帖、重型切削的高速粗加工及半精加工乏根。
    2．PVD技術(shù)主要應用于整體硬質(zhì)合金刀具和高速鋼刀具的表面處理。與CVD工藝相比仔省，PVD工藝溫度低（最低可低至80℃）俄躺，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度基本無影響；薄膜內(nèi)部應力狀態(tài)為壓應力红集，更適于對硬質(zhì)合金精密復雜刀具的涂層亲沃；PVD工藝對環(huán)境無不利影響。PVD涂層技術(shù)已普遍應用于硬質(zhì)合金鉆頭判懒、銑刀袋员、鉸刀、絲錐刀雳、異形刀具痘嫉、焊接刀具等的涂層處理。

                                          圖二 PVD涂層原理

 物理氣相沉積（PVD）在工藝上主要有（1）真空陰極弧物理蒸發(fā)（2）真空磁控離子濺射兩種方式粪世。
    （1）陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）   真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流馆义，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子挂捅。被離化的金屬離子以60～100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束芹助，在含有惰性氣體或反應氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右闲先，所以與真空磁控離子濺射相比状土，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。但由于金屬離化過程非常激烈伺糠，會產(chǎn)生較多的有害雜質(zhì)顆粒蒙谓，涂層表面較為粗糙泼司。
    （2）磁控離子濺射（SPUTTERING）  真空磁控離子濺射過程中捞蹈，氬離子被被加速打在加有負電壓的陰極（靶材）上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4～6eV的金屬離子煎饼。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上舵揭，形成涂層薄膜谤专。由于金屬離子能量較低躁锡，涂層的結(jié)合力與硬度也相應較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些，但由于其表面質(zhì)量優(yōu)異被廣泛應用于有表面功能性和裝飾性的涂層領(lǐng)域中置侍。

                                       圖三 PVD涂層刀具

二映之、涂層種類